- 专利标题: 一种高导电且内部连续的石墨烯杂化膜制备方法
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申请号: CN202011329617.X申请日: 2020-11-24
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公开(公告)号: CN112582105A公开(公告)日: 2021-03-30
- 发明人: 王奔 , 朱彦松 , 段玉岗 , 肖鸿 , 明越科
- 申请人: 西安交通大学
- 申请人地址: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- 专利权人: 西安交通大学
- 当前专利权人: 西安交通大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- 代理机构: 西安智大知识产权代理事务所
- 代理商 贺建斌
- 主分类号: H01B13/00
- IPC分类号: H01B13/00 ; C01B32/184
摘要:
一种高导电且内部连续的石墨烯杂化膜制备方法,先通过氧化石墨烯与金属纳米颗粒的杂化,将相邻的氧化石墨烯片通过金属纳米颗粒包裹交联起来,减小氧化石墨烯片之间的界面电阻;再利用化学还原或低温热处理对杂化膜进行预还原,使其具有导电性能;最后通过电加热对杂化膜进行800℃‑2000℃的热还原,还原后的石墨烯杂化膜电导率与超高温石墨化处理后的石墨烯膜在同一个数量级105S/m;本发明减少了时间成本,同时也解决了高温炉的尺寸对杂化膜大小的限制。
公开/授权文献
- CN112582105B 一种高导电且内部连续的石墨烯杂化膜制备方法 公开/授权日:2022-08-05