发明公开
- 专利标题: 一种氮化镓半导体器件
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申请号: CN202011419622.X申请日: 2020-12-06
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公开(公告)号: CN112584607A公开(公告)日: 2021-03-30
- 发明人: 周德金 , 徐宏 , 闫大为 , 陈珍海 , 马君健 , 韩婷婷 , 刘宗伟
- 申请人: 无锡英诺赛思科技有限公司 , 清华大学无锡应用技术研究院
- 申请人地址: 江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢4层406;
- 专利权人: 无锡英诺赛思科技有限公司,清华大学无锡应用技术研究院
- 当前专利权人: 无锡英诺赛思科技有限公司,清华大学无锡应用技术研究院
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢4层406;
- 代理机构: 北京智宇正信知识产权代理事务所
- 代理商 李明卓
- 主分类号: H05K1/02
- IPC分类号: H05K1/02 ; H05K1/18
摘要:
本发明公开了一种氮化镓半导体器件,具体涉及半导体技术领域,包括器件主体,所述器件主体的内壁上设置有防水结构,所述器件主体内部的四周设置有加强结构,所述器件主体内部的一端固定连接有电路板,所述器件主体的顶端固定连接有四组连接块,所述器件主体内部的底端固定连接有放置座。本发明通过设置有内层体、加强板、中层体和连接座,使用时,器件主体的内部设置有中层体和内层体,中层体和内层体形成双层的结构,增加了器件主体的结构强度,并且在中层体和内层体之间通过连接座横向设置有加强板,加强了结构的强度,加强板和连接座连接在一起,结构稳定,避免在使用过程中发生脱落,增加了器件的使用效果。
公开/授权文献
- CN112584607B 一种氮化镓半导体器件 公开/授权日:2022-02-25