发明公开
- 专利标题: 一种中硼硅玻璃组合物、中硼硅玻璃及其制备方法和应用
-
申请号: CN202110003714.8申请日: 2021-01-04
-
公开(公告)号: CN112694254A公开(公告)日: 2021-04-23
- 发明人: 李青 , 李赫然 , 李刚 , 胡恒广 , 史伟华 , 闫冬成 , 王博 , 安利营
- 申请人: 河北光兴半导体技术有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司 , 东旭科技集团有限公司
- 申请人地址: 河北省石家庄市高新区黄河大道9号; ;
- 专利权人: 河北光兴半导体技术有限公司,东旭光电科技股份有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人: 河北光兴半导体技术有限公司,东旭光电科技股份有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人地址: 河北省石家庄市高新区黄河大道9号; ;
- 代理机构: 北京英创嘉友知识产权代理事务所
- 代理商 邹宇宁
- 主分类号: C03C3/11
- IPC分类号: C03C3/11 ; C03B5/235
摘要:
本公开涉及一种中硼硅玻璃组合物,其特征在于,所述组合物含有B2O3、SiO2、Al2O3、ZnO、碱金属氧化物、碱土金属氧化物和La2O3;以组合物的总重量为基准,所述中硼硅玻璃组合物中,B2O3、SiO2和Al2O3的总含量为88‑92.5重量%,碱金属氧化物的总含量为6‑9重量%;ZnO和碱土金属氧化物的总含量为0.9‑3.7重量%;ZnO的含量与ZnO和碱土金属氧化物的总含量之和的比值为0‑0.45;La2O3的含量与ZnO和碱土金属氧化物的总含量之和的比值为0‑0.5。由该玻璃组合物制备的中硼硅玻璃具有良好的耐水、耐酸和耐碱侵蚀性能以及优越的光学性能。利用本公开所提供的技术方案可以减少中硼硅玻璃生产中经常出现的结石、线道、气泡等缺陷,产品具有较高的良品率。