本发明公开了一种半导体设备腔体内硅部件的自动清洗装置，包括相连通的上壳体和下壳体，在上壳体中设有抓取机构，在下壳体上部分别设有药液槽和清水槽。在清洗时固定治具与硅部件只有边棱相接触，以最小的接触面积达到清洗目的。药液槽内设有多个固定槽，可同时放置固定治具，提高作业效率；固定槽内有加热棒，保证药液恒温，确保反应速率；抓取机构能够前后左右上下移动将不同位置的固定治具抓取上来，避免人员接触强腐蚀性药液，改善了人员职业健康环境。