发明公开
- 专利标题： 低金属卤化物剂量的等离子体光源
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申请号： CN201980047702.6申请日： 2019-06-07
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公开(公告)号： CN112771644A公开(公告)日： 2021-05-07
- 发明人: S·马克尔约翰 , B·普雷斯顿
- 申请人： 塞拉维申有限公司
- 申请人地址： 英国白金汉郡米尔顿凯恩斯
- 专利权人： 塞拉维申有限公司
- 当前专利权人： 塞拉维申有限公司
- 当前专利权人地址： 英国白金汉郡米尔顿凯恩斯
- 代理机构： 珠海智专专利商标代理有限公司
- 代理商 段淑华; 刘曾剑
- 优先权： 1809479.7 20180608 GB
- 国际申请： PCT/GB2019/051604 2019.06.07
- 国际公布： WO2019/234455 EN 2019.12.12
- 进入国家日期： 2021-01-15
- 主分类号： H01J61/12
- IPC分类号： H01J61/12 ; H01J61/20 ; H01J65/04
摘要：
在等离子体坩埚(2)中包含低剂量的、优选为不饱和的微波可激发材料(9)填充物，包括稀有气体中的至少两种金属卤化物以及可选的汞缓冲剂，以在其中形成发光等离子体。
