Invention Publication
- Patent Title: 一种立体栽培模式下栽培层直射光进光率分析方法及装置
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Application No.: CN202110192227.0Application Date: 2021-02-19
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Publication No.: CN112800627APublication Date: 2021-05-14
- Inventor: 方慧 , 伍纲 , 李琨 , 仝宇欣 , 程瑞锋 , 张义 , 李涛
- Applicant: 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
- Applicant Address: 北京市海淀区中关村南大街12号
- Assignee: 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
- Current Assignee: 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
- Current Assignee Address: 北京市海淀区中关村南大街12号
- Agency: 北京路浩知识产权代理有限公司
- Agent 王宇杨
- Main IPC: G06F30/20
- IPC: G06F30/20 ; G06F16/29

Abstract:
本发明提供一种立体栽培模式下栽培层直射光进光率分析方法及装置。其中,该方法包括:获取栽培层对应的目标参数;将所述目标参数分别输入到所述栽培层对应的南北方向瞬时进光率模型和东西方向瞬时进光率模型中,获得所述栽培层瞬时进光率随时间变化的函数关系;根据温室所在地理纬度、目标时间段对应的顺序数以及赤纬角,得到所述目标时间段内所述栽培层的进光率随时间变化的信息。采用本发明公开的立体栽培模式下栽培层直射光进光率分析方法,操作更加便捷,成本较低,无需安装外部传感器设备,能够有效提高现有温室立体栽培模式中栽培层直射光进光率计算效率及实用性。
Public/Granted literature
- CN112800627B 一种立体栽培模式下栽培层直射光进光率分析方法及装置 Public/Granted day:2024-02-02
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