- 专利标题: 用于制造空间上变化的介电材料的方法、通过该方法制造的制品及其用途
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申请号: CN201980068541.9申请日: 2019-10-18
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公开(公告)号: CN112867601B公开(公告)日: 2023-11-17
- 发明人: 特雷弗·波利多尔 , 塞尔吉奥·克拉维霍 , 迪尔克·巴尔斯
- 申请人: 罗杰斯公司
- 申请人地址: 美国亚利桑那州
- 专利权人: 罗杰斯公司
- 当前专利权人: 罗杰斯公司
- 当前专利权人地址: 美国亚利桑那州
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡胜有; 苏虹
- 国际申请: PCT/US2019/056971 2019.10.18
- 国际公布: WO2020/081954 EN 2020.04.23
- 进入国家日期: 2021-04-16
- 主分类号: B32B7/025
- IPC分类号: B32B7/025 ; B29C64/124 ; B32B27/08 ; H01Q9/00 ; G02B3/00 ; H01Q3/44 ; H01Q15/08 ; H01Q15/02 ; H01Q19/06 ; B33Y30/00 ; B33Y80/00
摘要:
一种制造具有空间梯度介电常数的聚合物结构的立体光刻方法,所述方法包括:提供一定体积的液态可辐射固化组合物;用活化辐射以一定图案照射所述液态可辐射固化组合物的一部分以形成所述聚合物结构的层;使所述层与所述液态可辐射固化组合物接触;用活化辐射以一定图案照射所述液态可辐射固化组合物以在第一层上形成第二层;以及重复所述接触和所述照射的步骤以形成所述聚合物结构,其中所述聚合物结构包含复数个单位单元,其中各单位单元与相邻单位单元一体地连接,各单位单元由通过所述照射形成的复数个桁架限定,其中桁架在其相应的端部处彼此一体地连接,以及各单位单元的所述桁架的尺寸被设置成提供所述空间梯度介电常数。
公开/授权文献
- CN112867601A 用于制造空间上变化的介电材料的方法、通过该方法制造的制品及其用途 公开/授权日:2021-05-28