Invention Publication
- Patent Title: 一种单帧强背景干扰下的透散射介质成像方法
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Application No.: CN202110142913.7Application Date: 2021-02-02
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Publication No.: CN112950731APublication Date: 2021-06-11
- Inventor: 席特立 , 何顺福 , 邵晓鹏 , 李伟 , 孙杨帆 , 梁文海 , 樊增增 , 高苗
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Agency: 西安嘉思特知识产权代理事务所
- Agent 刘长春
- Main IPC: G06T11/00
- IPC: G06T11/00 ; G06T5/00

Abstract:
本发明提供的一种单帧强背景干扰下的透散射介质成像方法,通过从强背景光干扰下的透散射介质成像系统中获取散斑图像,计算散斑图像的自相关;在散斑图像中,先去除自相关波浪形背景;之后去除与目标的自相关相互混合的尖峰部分,得到去除干扰光背景的散斑自相关图像;由于在自相关上外界强干扰表现为一个波浪形背景与尖峰的组合,而波浪形背景与目标信息在数值上有着显著的差别,故在自相关上对波浪形背景进行拟合比在散斑上直接进行拟合有着更为有效的效果,采用低秩稀疏矩阵再来对与目标信息混合在一起的表现为尖峰部分的噪声进行去除,更进一步提高了散斑自相关的对比度,使得本发明能够从存在强背景光干扰的情况下从散斑中重建出目标。
Public/Granted literature
- CN112950731B 一种单帧强背景干扰下的透散射介质成像方法 Public/Granted day:2024-01-23
Information query
IPC分类:
G | 物理 |
G06 | 计算;推算或计数 |
G06T | 一般的图像数据处理或产生 |
G06T11/00 | 2D〔二维〕图像的生成 |