发明公开
CN1129680A 二氧化硅玻璃的高折射率化方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 二氧化硅玻璃的高折射率化方法
- 专利标题（英）： Method of increasing index of refraction of silica
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申请号： CN95119949.8申请日： 1995-10-17
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公开(公告)号： CN1129680A公开(公告)日： 1996-08-28
- 发明人: 蟹江智彦 , 片山诚
- 申请人： 住友电气工业株式会社
- 申请人地址： 日本大阪府
- 专利权人： 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人： 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪府
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 叶恺东; 马铁良
- 优先权： 250494/94 1994.10.17 JP; 247495/95 1995.09.26 JP
- 主分类号： C03C23/00
- IPC分类号： C03C23/00
摘要：
二氧化硅玻璃的高折射率化的方法，特征是利用具有波长范围为1.2～7.0的X射线(2)照射二氧化硅玻璃(1)中所规定的照射部位(1A)，以X射线(2)激发照射部位(1A)内硅原子的K层电子，以有效提高照射部位(1A)内的折射率。
公开/授权文献
- CN1070462C 二氧化硅玻璃的高折射率化方法 公开/授权日：2001-09-05