- 专利标题: 基于InAs/GaSb超晶格的中红外半导体可饱和吸收镜及其制备方法
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申请号: CN202110003179.6申请日: 2021-01-04
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公开(公告)号: CN112968345B公开(公告)日: 2022-01-04
- 发明人: 谢国强 , 覃治鹏 , 周易 , 陈建新
- 申请人: 上海交通大学 , 中国科学院上海技术物理研究所
- 申请人地址: 上海市闵行区东川路800号;
- 专利权人: 上海交通大学,中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人: 上海交通大学,中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区东川路800号;
- 代理机构: 上海恒慧知识产权代理事务所
- 代理商 张宁展
- 主分类号: H01S3/098
- IPC分类号: H01S3/098
摘要:
一种基于InAs/GaSb超晶格的中红外半导体可饱和吸收镜,包括:GaSb衬底;在该GaSb衬底的下表面镀有高透膜;InAs/GaSb超晶格,该InAs/GaSb超晶格具有特定的结构和厚度,制作在所述GaSb衬底上;反射膜,该反射膜制作在所述InAs/GaSb超晶格上;所述的反射膜由多对1/4波长厚度的ZnS和YbF3膜层构成,且所述的YbF3膜层与所述InAs/GaSb超晶格相接。本发明不仅具有宽带的中红外工作范围,且具有皮实、稳定可靠、参数可调等优良特性,为中红外超快锁模激光器的发展铺平了道路。
公开/授权文献
- CN112968345A 基于InAs/GaSb超晶格的中红外半导体可饱和吸收镜及其制备方法 公开/授权日:2021-06-15