- 专利标题: 用于摩擦离合器盘的渐进装置和包含其的摩擦离合器盘
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申请号: CN202011517218.6申请日: 2020-12-21
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公开(公告)号: CN113007233A公开(公告)日: 2021-06-22
- 发明人: R.德丰泰内 , P.达斯特
- 申请人: 法雷奥离合器公司
- 申请人地址: 法国亚眠
- 专利权人: 法雷奥离合器公司
- 当前专利权人: 法雷奥离合器公司
- 当前专利权人地址: 法国亚眠
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 谭华
- 优先权: 1914976 20191219 FR
- 主分类号: F16D13/68
- IPC分类号: F16D13/68 ; F16D13/64 ; F16F15/134
摘要:
本发明涉及一种用于摩擦离合器盘的渐进装置(10),包括:支撑凸缘(11),具有中央旋转轴线(X),其中,环形中央部分(12)被设计为与扭转振动衰减器(100)配合,外部部分(13)支承渐进叶片(20、20a)和附连至渐进叶片的摩擦垫(30),其中,渐进叶片在支撑凸缘的至少一个面上沿周向延伸,所述渐进叶片(20、20a)包括固定到外部部分(13)的一个端部(26)、另一自由端部(21)和界定用于摩擦垫(30)的支撑区域(22)的弯折部(24a、24b)。
公开/授权文献
- CN113007233B 用于摩擦离合器盘的渐进装置和包含其的摩擦离合器盘 公开/授权日:2024-10-18
IPC分类: