Invention Grant
- Patent Title: 基于X射线的电子系统辐射敏感位置快速甄别方法及系统
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Application No.: CN202110292224.4Application Date: 2021-03-18
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Publication No.: CN113064196BPublication Date: 2023-06-27
- Inventor: 马武英 , 欧阳晓平 , 郭红霞 , 姚志斌 , 何宝平 , 王祖军 , 盛江坤 , 薛院院 , 缑石龙
- Applicant: 西北核技术研究所
- Applicant Address: 陕西省西安市灞桥区平峪路28号
- Assignee: 西北核技术研究所
- Current Assignee: 西北核技术研究所
- Current Assignee Address: 陕西省西安市灞桥区平峪路28号
- Agency: 西安智邦专利商标代理有限公司
- Agent 郑丽红
- Main IPC: G01T1/02
- IPC: G01T1/02
Abstract:
本发明提供一种基于X射线的电子系统辐射敏感位置快速甄别方法及系统，解决电子系统级总剂量效应试验过程中辐射敏感位置难以快速、准确定位的问题。该方法和系统在试验过程中采用局部屏蔽技术和逐个器件扫描辐照方式，可快速、准确获得电子系统的辐射敏感位置，不需要改变系统设计，并回避了长线加偏置、离线测试等问题，实现方法简单易行，实验周期短、成本低且操作方法简单。
Public/Granted literature
- CN113064196A 基于X射线的电子系统辐射敏感位置快速甄别方法及系统 Public/Granted day:2021-07-02
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