发明公开
- 专利标题： 一种光栅结构及其制备方法、显示设备
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申请号： CN202110357505.3申请日： 2021-04-01
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公开(公告)号： CN113075757A公开(公告)日： 2021-07-06
- 发明人: 李文波 , 周健
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京市铸成律师事务所
- 代理商 王云红; 包莉莉
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18
摘要：
本公开提供一种光栅结构，包括多个在第一方向上依次排列的光栅单元，光栅单元包括不透光部和透光部，不透光部和透光部均呈沿第二方向延伸的条状，光栅结构被配置为使反射光线与入射光线位于同一路径上，第二方向与第一方向不平行，反射光线为入射光线经光栅结构反射后的光线。本公开实施例的光栅结构，可以实现防窥。
公开/授权文献
- CN113075757B 一种光栅结构及其制备方法、显示设备 公开/授权日：2022-12-23
