发明公开
- 专利标题: 一种TaSi2粉体的提纯方法
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申请号: CN202110488058.5申请日: 2021-04-30
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公开(公告)号: CN113149018A公开(公告)日: 2021-07-23
- 发明人: 李明伟 , 董国华 , 张庆猛 , 钟业盛 , 杨剑民 , 陈均优 , 孙宇雷 , 史丽萍 , 赫晓东 , 张文治 , 何飞
- 申请人: 哈尔滨工业大学 , 齐齐哈尔大学 , 有研工程技术研究院有限公司
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号; ;
- 专利权人: 哈尔滨工业大学,齐齐哈尔大学,有研工程技术研究院有限公司
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学,齐齐哈尔大学,有研工程技术研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号; ;
- 代理机构: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司
- 代理商 侯静
- 主分类号: C01B33/06
- IPC分类号: C01B33/06
摘要:
一种TaSi2粉体的提纯方法,它涉及材料领域,本发明要提供一种经济与易于实施且提纯效果佳的TaSi2粉体的提纯方法。本发明方法:取TaSi2原粉体,加入浓度为1~5mol/L的KOH溶液,在室温~90℃水浴锅中搅拌反应2~10h,然后用砂芯漏斗抽滤,超纯水洗至中性,真空干燥后,得提纯后的TaSi2粉体;其中,TaSi2原粉体和KOH溶液的质量体积比为1g:(10~50)mL。本发明从经济与易于实施的角度出发,提出如下的提纯处理工艺:经过一系列的处理达到提纯的效果。本发明应用TaSi2粉体领域。