Invention Publication
- Patent Title: 抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用
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Application No.: CN202110466209.7Application Date: 2021-04-28
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Publication No.: CN113185145APublication Date: 2021-07-30
- Inventor: 孔壮 , 刘辉 , 贾金升 , 孙勇 , 曹振博 , 赵冉 , 余刚 , 孟政 , 孟凡禹
- Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区管庄东里1号
- Assignee: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- Current Assignee: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区管庄东里1号
- Agency: 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- Agent 霍红艳; 刘铁生
- Main IPC: C03C21/00
- IPC: C03C21/00 ; H01S3/16 ; H01S3/17
Abstract:
本发明提供了一种抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用，该方法包括以下步骤：1)Cu+离子交换；2)电场辅助离子扩散；3)Cu+离子氧化。本发明的激光钕玻璃在1053nm处的反射率0‑1％，铜离子交换层的深度大于250μm。
Public/Granted literature
- CN113185145B 抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用 Public/Granted day:2022-05-17
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