发明授权
- 专利标题: 一种有效检测TaSi2纯度的方法
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申请号: CN202110488059.X申请日: 2021-04-30
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公开(公告)号: CN113218811B公开(公告)日: 2022-08-05
- 发明人: 李明伟 , 钟业盛 , 董国华 , 张庆猛 , 杨剑民 , 陈均优 , 孙宇雷 , 史丽萍 , 赫晓东 , 张文治 , 何飞
- 申请人: 哈尔滨工业大学 , 齐齐哈尔大学 , 有研工程技术研究院有限公司
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号; ;
- 专利权人: 哈尔滨工业大学,齐齐哈尔大学,有研工程技术研究院有限公司
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学,齐齐哈尔大学,有研工程技术研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号; ;
- 代理机构: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司
- 代理商 侯静
- 主分类号: G01N5/04
- IPC分类号: G01N5/04 ; G01N5/00
摘要:
一种有效检测TaSi2纯度的方法,它涉及材料领域,本发明提供一种有效检测TaSi2纯度的方法。本发明的TaSi2试样经硝酸与氢氟酸处理使游离Si、SiO2、游离Ta、生成四氟化硅气体与[TaF7]2‑配离子,再加入KOH溶液中和多余的酸以及与未反应的离子反应,抽滤后测定残留物量即为TaSi2的含量。本发明所检测结果TaSi2物相的纯度基本均稳定在99%左右,所测结果数值稳定,表明本发明具有很高的检测稳定性和可靠性。本发明与目前仪器手段表征相比优势在于可准确检测出TaSi2物相的含量,再通过简单计算就可得到物相纯度。本发明应用于TaSi2纯度检测领域。
公开/授权文献
- CN113218811A 一种有效检测TaSi2纯度的方法 公开/授权日:2021-08-06