发明授权
- 专利标题： 化学机械抛光垫、制备方法及其应用
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申请号： CN202110616763.9申请日： 2021-06-03
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公开(公告)号： CN113334243B公开(公告)日： 2023-03-31
- 发明人: 谢毓 , 王凯
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 主分类号： B24B37/20
- IPC分类号： B24B37/20 ; B24B37/22
摘要：
本发明公开了一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述抛光垫至少包括抛光层、粘结层及缓冲层，所述抛光层硬度及压缩率沿竖直剖面方向上呈现梯度变化趋势，所述抛光面与远离抛光面的背面之间硬度差为0.1～2D，压缩率差为0.1～2％。本发明的抛光垫通过预聚体中加入空心微球与实心微球的质量比等工艺调控实现抛光层硬度及压缩率在垂直方向上的差异分布，得到的抛光垫兼具高的研磨速率及研磨平坦性。
公开/授权文献
- CN113334243A 化学机械抛光垫、制备方法及其应用 公开/授权日：2021-09-03
