发明公开
- 专利标题: 一种电沉积铜箔后处理装置
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申请号: CN202110612960.3申请日: 2021-06-02
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公开(公告)号: CN113355704A公开(公告)日: 2021-09-07
- 发明人: 古明煌 , 谢基贤 , 罗志宏 , 李永明 , 郭志航 , 谢伟成
- 申请人: 广东嘉元科技股份有限公司
- 申请人地址: 广东省梅州市梅县区雁洋镇文社
- 专利权人: 广东嘉元科技股份有限公司
- 当前专利权人: 广东嘉元科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省梅州市梅县区雁洋镇文社
- 代理机构: 北京东方盛凡知识产权代理事务所
- 代理商 张雪
- 主分类号: C25D1/04
- IPC分类号: C25D1/04 ; C25D21/18 ; B08B1/00 ; B08B1/02 ; B08B3/02 ; F26B5/16 ; F26B13/00 ; F26B21/00
摘要:
本发明公开一种电沉积铜箔后处理装置,包括安装台,安装台上固定设置有电解槽,电解槽底部设置有阳极板,电解槽内轴接有阴极辊,安装台在阴极辊的上方固定连接有安装架,安装架上设置有铜箔清洗机构,铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构,烘干机构的一侧设置有收卷机构。本发明通过挤液辊使附着在铜箔表面的硫酸铜溶液重新流入阳极槽,实现了硫酸铜溶液的回收再利用;并且通过多组毛刷喷水辊和真空吸附辊对铜箔上下表面进行清洗,并通过烘干箱体对铜箔上下表面进行烘干,彻底地清除了附着在铜箔表面的硫酸铜溶液。
公开/授权文献
- CN113355704B 一种电沉积铜箔后处理装置 公开/授权日:2022-03-25