发明公开
- 专利标题: 阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法
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申请号: CN202010148351.2申请日: 2020-03-05
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公开(公告)号: CN113360013A公开(公告)日: 2021-09-07
- 发明人: 刘屹 , 肖文俊 , 冯博 , 陈晓晓 , 王洋 , 魏旃 , 赵天鑫 , 纪昊亮 , 穆文凯 , 田丽
- 申请人: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市北京经济技术开发区经海一路118号;
- 专利权人: 北京京东方显示技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 北京京东方显示技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市北京经济技术开发区经海一路118号;
- 代理机构: 北京博思佳知识产权代理有限公司
- 代理商 张相钦
- 主分类号: G06F3/041
- IPC分类号: G06F3/041
摘要:
本发明提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法,阵列基板包括衬底、形成于衬底上的栅极层、形成于栅极层上的第一绝缘层、形成于第一绝缘层上的源漏电极层、形成于源漏电极层上的第二绝缘层、形成于第二绝缘层上的触控电极层、形成于触控电极层上的第三绝缘层、形成于第三绝缘层上的像素电极层。触控电极层包括触控驱动电极,像素电极层包括连接电极。阵列基板包括触控信号线、第一过孔及第二过孔,源漏电极层包括触控信号线,触控信号线通过第一过孔与连接电极电性连接,连接电极通过第二过孔与触控驱动电极电性连接。第一过孔贯穿第二绝缘层及第三绝缘层,第一过孔在衬底上的正投影与触控电极层在衬底上的正投影错开。
公开/授权文献
- CN113360013B 阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法 公开/授权日:2023-10-31