本发明公开了一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，包括：对FeNi合金薄板进行预处理，之后以蚀刻液均匀喷淋所述FeNi合金薄板，以将所述FeNi合金薄板蚀刻减薄形成FeNi合金箔带，其后对所述FeNi合金箔带进行后处理；其中，所述蚀刻液包括FeCl3、HCl和水。本发明工艺简单易操作，不仅可以进一步快速、均匀地降低FeNi合金薄板的厚度，还可以去除其表面的轧制硬化层，降低其内部塑性应变和残余应力，从而抑制蚀刻减材时的变形，有效改善FeNi合金箔带的柔性，显著提升掩膜版制造的成品率，且无需进行后期处理。本发明的方法适用于各种成分、尺寸与厚度的FeNi合金薄板，所获FeNi合金箔带厚度均匀、表面粗糙度低。