发明授权
CN1133901C 用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物
失效 - 权利终止
- 专利标题: 用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物
- 专利标题(英): Alkysulfonyloximes for high-resolution I-line hpotoresists of high sensitivity
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申请号: CN97197557.4申请日: 1997-08-22
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公开(公告)号: CN1133901C公开(公告)日: 2004-01-07
- 发明人: K·迪特利克 , M·昆兹 , H·雅马托 , C·德勒奥
- 申请人: 西巴特殊化学品控股有限公司
- 申请人地址: 瑞士巴塞尔
- 专利权人: 西巴特殊化学品控股有限公司
- 当前专利权人: 西巴特殊化学品控股有限公司
- 当前专利权人地址: 瑞士巴塞尔
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 吴玉和; 杨九昌
- 优先权: 2147/1996 1996.09.02 CH
- 国际申请: PCT/EP1997/04566 1997.08.22
- 国际公布: WO1998/10335 EN 1998.03.12
- 进入国家日期: 1999-03-01
- 主分类号: G03F7/004
- IPC分类号: G03F7/004
摘要:
本发明公开了式1肟烷基磺酸酯化合物作为光敏酸产生体在可用碱性介质显影且对波长为340-390纳米的射线敏感的化学放大性光致抗蚀剂以及对上述波长范围适用的相应组成的正型和负型光致抗蚀剂中的应用:其中R代表萘基,(2)或(3);R0代表R1-X基团或R2;X代表直接连键,氧原子或硫原子;R1代表氢,C1-C4烷基或未取代的或被选自氯、溴、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基的取代基所取代的苯基;R2代表氢或C1-C4烷基;且R3代表直链或支链C1-C12烷基,该烷基为未取代的或被一个或多个卤原子取代。
公开/授权文献
- CN1228851A 用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物 公开/授权日:1999-09-15
IPC分类: