Invention Grant
- Patent Title: 一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备
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Application No.: CN202010242015.4Application Date: 2020-03-31
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Publication No.: CN113457318BPublication Date: 2022-08-30
- Inventor: 赵仁洁 , 王泽锟
- Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
- Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Current Assignee: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 孟金喆
- Main IPC: B01D47/02
- IPC: B01D47/02 ; B01D53/18 ; F24F6/00 ; G03F7/20
Abstract:
本发明实施例公开了一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备，其中超洁净湿空气制备装置包括：进气单元；与进气单元连接的洗气单元；洗气单元内部设置有多孔结构，多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积；出气单元，出气单元与洗气单元连接。本发明实施例提供的技术方案通过在洗气单元内部设置多孔结构，通过多孔结构增大注入气体与洁净水的接触面积，保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气，并且降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
Public/Granted literature
- CN113457318A 一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备 Public/Granted day:2021-10-01
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