- 专利标题: ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用
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申请号: CN202110686716.1申请日: 2021-06-21
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公开(公告)号: CN113527602A公开(公告)日: 2021-10-22
- 发明人: 李文刚 , 何新耀 , 李玉博
- 申请人: 佳化化学科技发展(上海)有限公司 , 上海抚佳精细化工有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祖冲之路887弄88号楼502室B座;
- 专利权人: 佳化化学科技发展(上海)有限公司,上海抚佳精细化工有限公司
- 当前专利权人: 佳化化学科技发展(上海)有限公司,上海抚佳精细化工有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祖冲之路887弄88号楼502室B座;
- 代理机构: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司
- 代理商 周卫赛
- 主分类号: C08F293/00
- IPC分类号: C08F293/00
摘要:
本发明属于光响应材料制备技术领域,具体涉及一种ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用。该嵌段聚合物分子量分布窄,可以在纯水体系中形成纳米级的球形胶束聚集体材料,尺寸为30~600nm,分布均匀,形态均一,可以承载油溶性分子,能够长期稳定存在。通过调节紫外线辐照,形成的球形聚集体材料被解离破坏,实现缓控释放,该聚集体材料具有紫外光响应特性。本发明提供的嵌段聚合物可以广泛应用于生物医药、农药、化学催化和合成等光控缓释等领域。
公开/授权文献
- CN113527602B ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用 公开/授权日:2024-04-26