发明公开
- 专利标题: 基于高斯过程的带罩反射面天线电性能预测方法
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申请号: CN202110923928.7申请日: 2021-08-12
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公开(公告)号: CN113536645A公开(公告)日: 2021-10-22
- 发明人: 李建伟 , 韩冰 , 周金柱 , 司宇 , 谷振玉 , 赵文忠
- 申请人: 中国电子科技集团公司第二十研究所 , 西安电子科技大学
- 申请人地址: 陕西省西安市白沙路1号;
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第二十研究所,西安电子科技大学
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第二十研究所,西安电子科技大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市白沙路1号;
- 代理机构: 陕西电子工业专利中心
- 代理商 王品华; 黎汉华
- 主分类号: G06F30/23
- IPC分类号: G06F30/23 ; G06Q10/04 ; G06F119/14
摘要:
本发明公开了一种基于高斯过程的带罩反射面天线电性能的快速分析方法,主要解决现有电磁仿真软件计算带罩反射面天线方向图耗时长的问题。其方案是:建立带罩反射面天线力学有限元模型,对其施加风力载荷,记录变形数据;确定带罩反射面天线的不确定性参数和设计区间;取不确定性参数的采样点,对其进行仿真得到矩阵A;对A作正交分解,得到电磁响应的基函数;通过基函数求得展开系数;利用高斯过程建立设计变量与展开系数的对应关系;将基函数和展开系数代入电磁响应预测表达式,得到与设计变量对应的电磁响应曲线。本发明能快速预测出受载带罩反射面天线的方向图,提高计算速度,可用于对带罩反射面天线受风力载荷零部件发生位移时的电性能分析。