- 专利标题： 一种同质种子层调控氧化铪基铁电薄膜电学性能的方法
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申请号： CN202110797458.4申请日： 2021-07-14
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公开(公告)号： CN113539812B公开(公告)日： 2024-04-26
- 发明人: 姜杰 , 张彪 , 姜楠 , 欧阳阔
- 申请人： 湘潭大学
- 申请人地址： 湖南省湘潭市雨湖区羊牯塘27号
- 专利权人： 湘潭大学
- 当前专利权人： 湘潭大学
- 当前专利权人地址： 湖南省湘潭市雨湖区羊牯塘27号
- 代理机构： 北京中政联科专利代理事务所
- 代理商 陈超
- 主分类号： H01L21/288
- IPC分类号： H01L21/288 ; H01L21/28
摘要：
本发明公开了一种同质种子层调控氧化铪基铁电薄膜电学性能的方法，其包括：制备氧化铪基种子层前驱体溶液；制备铁电薄膜的薄膜前驱体溶液；用所述种子层前驱体溶液制得氧化铪基种子层；在所述氧化铪基种子层上旋涂所述薄膜前驱体溶液，对所述薄膜前驱体溶液进行处理后得到氧化铪基铁电薄膜。该方法是以一种与氧化铪基薄膜层完全相同的材料作为种子层，避免了以其他材料为种子层产生的元素扩散和界面死层，极大地增强了氧化铪基薄膜的铁电性能。
公开/授权文献
- CN113539812A 一种同质种子层调控氧化铪基铁电薄膜电学性能的方法 公开/授权日：2021-10-22
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