本发明涉及基于物联网的等离子体反应腔内气体流量控制系统及方法，控制系统包括导流管、气体供给嘴、射流泵、磁场调控装置、节流阀、磁场传感器及基于物联网驱动电路，气体供给嘴后端面通过导流管与节流阀连通，节流阀通过导流管与射流泵连通，磁场调控装置包覆在气体供给嘴外，磁场传感器嵌于气体供给嘴侧壁内。其控制方法包括设备组装，供给流量调节两个步骤。本发明通用性好，运行自动化程度高，可有效满足多种气体及反应腔配套运行作业的需要，同时对输送的气流流速、浓度、压力均具有精确的调控能力，有效的降低了系统运行维护的难度及成本，降低了系统运行故障率。