本发明提供了一种取向硅钢的磁畴细化方法，属于高磁感取向硅钢生产技术领域技术领域，包括：采用激光在带钢表面烧蚀出若干沟槽；采用腐蚀液对所述沟槽进行腐蚀，获得刻槽；其中，所述沟槽与带钢宽度方向的夹角为0‑20°；所述沟槽的深度为0.5～20μm，宽度为30～200μm；所述刻槽深度为0.5～30μm、宽度为30～300μm。该方法能够显著的细化磁畴，降低取向硅钢片单位损耗，同时细化磁畴的效果能够承受800℃‑900℃的消除应力退火。本发明还提供了一种取向硅钢的磁畴细化方法在取向硅钢生产中的应用。