发明授权
- 专利标题: 基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备
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申请号: CN202110849800.0申请日: 2021-07-27
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公开(公告)号: CN113604788B公开(公告)日: 2022-10-21
- 发明人: 张超
- 申请人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 申请人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 专利权人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 王婷
- 主分类号: C23C14/54
- IPC分类号: C23C14/54 ; C23C14/56 ; H01L21/67
摘要:
本发明提供一种基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备,该装置包括正偏压调节单元、负偏压调节单元和抗干扰单元,其中,正偏压调节单元的第一端接地,正偏压调节单元的第二端与基座电连接,用于调节基座的偏压,且能够使基座产生正偏压;负偏压调节单元的第一端接地,负偏压调节单元的第二端与基座电连接,用于调节基座的偏压,且能够使基座产生负偏压;抗干扰单元连接在负偏压调节单元与基座之间的电路上,用于抑制正偏压调节单元与基座之间的电路中的电流流入负偏压调节单元与基座之间的电路中。本发明提供的基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备的技术方案,可以满足不同工艺需求,从而扩大了工艺窗口。
公开/授权文献
- CN113604788A 基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备 公开/授权日:2021-11-05
IPC分类: