- 专利标题： 含有镁的电极及其制造方法、以及电化学设备
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申请号： CN202080022414.8申请日： 2020-04-07
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公开(公告)号： CN113614952B公开(公告)日： 2024-04-30
- 发明人: 松本隆平 , 中山有理 , 川崎秀树
- 申请人： 株式会社村田制作所
- 申请人地址： 日本京都
- 专利权人： 株式会社村田制作所
- 当前专利权人： 株式会社村田制作所
- 当前专利权人地址： 日本京都
- 代理机构： 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 赵曦
- 国际申请： PCT/JP2020/016230 2020.04.07
- 国际公布： WO2020/213549 JA 2020.10.22
- 进入国家日期： 2021-09-17
- 主分类号： H01M4/1395
- IPC分类号： H01M4/1395 ; C25D3/42 ; H01M4/38 ; H01M10/054 ; H01M12/06 ; H01M12/08 ; H01G11/30 ; H01G11/86
摘要：
提供一种通过镀敷法制造含有镁的电极的方法。在本发明的制造方法中，用于镀敷法的镀敷液包含由含醚构成的溶剂，在该溶剂中，包含具有由通式(R3Si)2N所示的二硅氨基结构(式中，R为碳原子数1以上且10以下的烃基)的第一镁盐、以及不具有二硅氨基结构的第二镁盐。
公开/授权文献
- CN113614952A 含有镁的电极及其制造方法、以及电化学设备 公开/授权日：2021-11-05
