发明授权
- 专利标题: 半导体存储装置
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申请号: CN202110164059.4申请日: 2021-02-05
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公开(公告)号: CN113690241B公开(公告)日: 2024-03-05
- 发明人: 刈谷奈由太 , 津田宗幸
- 申请人: 铠侠股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 铠侠股份有限公司
- 当前专利权人: 铠侠股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 杨林勳
- 优先权: 2020-086915 2020.05.18 JP
- 主分类号: H10B41/10
- IPC分类号: H10B41/10 ; H10B41/35 ; H10B41/27 ; H10B43/10 ; H10B43/35 ; H10B43/27
摘要:
半导体存储装置具备:多个第1导电层,排列在第1方向上;多个第2导电层,在第2方向上与多个第1导电层相隔而配置,且排列在第1方向上;半导体层,设置在多个第1导电层与多个第2导电层之间;以及电荷蓄积层,具备设置在多个第1导电层与半导体层之间的第1部分及设置在多个第2导电层与半导体层之间的第2部分。该半导体存储装置构成为能够执行第1写入动作与第2写入动作,该第1写入动作是对作为多个第1导电层其中一个的第3导电层供给第1编程电压,对作为多个第1导电层其中一个的第4导电层供给小于第1编程电压的写入通路电压,该第2写入动作是对第3导电层供给大于写入通路电压的第2编程电压,对第4导电层供给第2编程电压。
公开/授权文献
- CN113690241A 半导体存储装置 公开/授权日:2021-11-23