发明公开
- 专利标题: 研磨水罩机构、研磨机及研磨机控制方法
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申请号: CN202111032634.1申请日: 2021-09-03
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公开(公告)号: CN113696094A公开(公告)日: 2021-11-26
- 发明人: 李青 , 王志周 , 王俊明 , 张志刚 , 赵玉乐 , 王皓
- 申请人: 山西光兴光电科技有限公司 , 东旭科技集团有限公司
- 申请人地址: 山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路96号山西圣逢茂汇科技有限公司综合楼7层701-702室;
- 专利权人: 山西光兴光电科技有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人: 山西光兴光电科技有限公司,东旭科技集团有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路96号山西圣逢茂汇科技有限公司综合楼7层701-702室;
- 代理机构: 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- 代理商 于海峰; 刘铁生
- 主分类号: B24B37/34
- IPC分类号: B24B37/34 ; B24B55/03 ; B24B37/00 ; B24B37/005
摘要:
本申请提供一种研磨水罩机构、研磨机及研磨机控制方法,涉及研磨机技术领域。研磨水罩机构,包括:固定板,其第一侧面用于竖直的安装在研磨机的机架上;驱动装置,其固定在所述固定板的第二侧面,所述直线驱动装置与研磨水罩连接,用于驱动所述研磨水罩沿竖直方向往复运动;摄像装置,所述摄像装置与所述固定板连接,用于拍摄包含有喷水位置信息和玻璃基板与研磨轮槽中线的对位信息的图片;其中,基于所述图片获得的信息,能够控制所述驱动装置驱动所述研磨水罩运动至指定位置,以及驱动所述研磨轮槽运动至研磨轮槽中线与所述玻璃基板对中的位置。所述研磨水罩机构能够准确的获得研磨水罩偏离的距离和方向,并控制研磨水罩精准的调整位置。
公开/授权文献
- CN113696094B 研磨水罩机构、研磨机及研磨机控制方法 公开/授权日:2022-07-12