Invention Grant
- Patent Title: 一种近场局部照射目标散射近远场转换方法
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Application No.: CN202111020081.8Application Date: 2021-09-01
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Publication No.: CN113702939BPublication Date: 2024-02-20
- Inventor: 贺新毅 , 童广德 , 徐秀丽 , 廖意
- Applicant: 上海无线电设备研究所
- Applicant Address: 上海市闵行区中春路1555号
- Assignee: 上海无线电设备研究所
- Current Assignee: 上海无线电设备研究所
- Current Assignee Address: 上海市闵行区中春路1555号
- Agency: 上海元好知识产权代理有限公司
- Agent 朱成之; 张妍
- Main IPC: G01S7/41
- IPC: G01S7/41

Abstract:
本发明提供一种近场局部照射目标散射近远场转换方法,包含步骤:S1、将目标分割成P个散射区域;S2、依序对各个散射区域进行2‑D平面采样,获取每个采样点的2‑D近场散射数据;S3、基于2‑D近场测试天线接收电压的表达式,对散射区域的所述2‑D近场散射数据进行近远场转换,获取该散射区域的2‑D远场散射特征量;S4、将各散射区域的2‑D远场散射特征量进行总场合成,基于RCS关系式计算得到目标总体RCS。本发明还提供一种近场局部照射目标散射近远场转换方法,适用于3‑D空间采样下获取目标总体RCS。
Public/Granted literature
- CN113702939A 一种近场局部照射目标散射近远场转换方法 Public/Granted day:2021-11-26
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