发明公开
- 专利标题： 用于确定针对光刻设备的校正的方法
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申请号： CN202080029533.6申请日： 2020-03-18
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公开(公告)号： CN113711128A公开(公告)日： 2021-11-26
- 发明人: R·沃克曼 , D·F·S·德克尔 , 西蒙·飞利浦·斯宾塞·哈斯廷斯 , J·T·杰巴兹 , S·阿尔·拉赫曼 , D·哈诺坦耶 , 林晨希 , 程亚娜
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王益
- 优先权： 62/834,618 20190416 US 62/865,415 20190624 US
- 国际申请： PCT/EP2020/057401 2020.03.18
- 国际公布： WO2020/212057 EN 2020.10.22
- 进入国家日期： 2021-10-18
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
提供一种用于确定针对在对衬底进行图案化的过程中所使用的设备的校正的方法，所述方法包括：获得与待处理的衬底的特征标识的处理历史和/或相似性相关联的分组结构；获得与所述分组结构内的多个分组相关联的量测数据，其中所述量测数据在所述多个分组之间是相关的；和通过将模型应用于所述量测数据来确定针对来自所述多个分组的一分组的校正，所述模型至少包括共同校正分量和特定于分组的校正分量。
公开/授权文献
- CN113711128B 用于确定针对光刻设备的校正的方法 公开/授权日：2024-05-14
IPC分类:
