发明授权
- 专利标题: 一种自修复共混聚合物电解质及其制备方法
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申请号: CN202111086395.8申请日: 2021-09-16
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公开(公告)号: CN113793982B公开(公告)日: 2023-03-24
- 发明人: 丁赵波 , 罗承东 , 赵玉辉 , 罗英 , 杜英杰 , 刘雯 , 郭瑞 , 裴海娟 , 解晶莹
- 申请人: 上海空间电源研究所
- 申请人地址: 上海市闵行区东川路2965号
- 专利权人: 上海空间电源研究所
- 当前专利权人: 上海空间电源研究所
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区东川路2965号
- 代理机构: 上海元好知识产权代理有限公司
- 代理商 贾慧琴; 张静洁
- 主分类号: H01M10/0562
- IPC分类号: H01M10/0562 ; H01M10/0565 ; H01M10/0525 ; C08G18/66 ; C08G18/50 ; C08G18/32
摘要:
本发明公开了一种自修复共混聚合物电解质及其制备方法,包含:步骤1,NH2‑PEG‑NH2和硫脲以及苯二亚甲基二异氰酸酯溶解,在20~80℃的温度和氮气气氛下发生聚合反应合成具有自修复硫脲基团和脲基基团的聚合物溶液Ⅰ;步骤2,将聚合物溶液Ⅰ倒入培养皿中,在真空干燥箱中加热24h~72h挥发溶剂得到固态聚合物Ⅱ;步骤3,固态聚合物Ⅱ溶解到碳酸亚乙烯酯溶剂中,依次加入引发剂和锂盐,室温在氮气气氛下搅拌8~24h形成均匀的聚合物电解质溶液Ⅲ;步骤4,45~80℃在引发剂作用下原位聚合形成固态自修复共混聚合物电解质。本发明合成的共混自修复聚合物电解质膜可塑性高、柔性强、与电极之间的界面阻抗低、离子电导率高和操作简单等特点。
公开/授权文献
- CN113793982A 一种自修复共混聚合物电解质及其制备方法 公开/授权日:2021-12-14