- 专利标题: 使用纳米颗粒调谐聚合物基质层的折射率以优化微光学(MO)聚焦
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申请号: CN202080034264.2申请日: 2020-05-20
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公开(公告)号: CN113795389B公开(公告)日: 2024-08-20
- 发明人: N·J·格滕斯 , J·D·戈斯内尔
- 申请人: 克瑞尼股份有限公司
- 申请人地址: 美国马萨诸塞州
- 专利权人: 克瑞尼股份有限公司
- 当前专利权人: 克瑞尼股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国马萨诸塞州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 申屠伟进; 吕传奇
- 国际申请: PCT/US2020/070064 2020.05.20
- 国际公布: WO2020/237259 EN 2020.11.26
- 进入国家日期: 2021-11-08
- 主分类号: B41M3/14
- IPC分类号: B41M3/14 ; B42D25/00 ; B42D25/30 ; B42D25/40 ; D21H21/40
摘要:
一种安全装置(100、600、700)包括:一种或多种图像图标布置(100a、110b、615、715);一种或多种折射图像图标聚焦元件布置(120、605、705);和密封层(127、600、1005),所述密封层包括有机树脂和纳米颗粒。此外,所述一种或多种折射图像图标聚焦元件布置设置在所述一种或多种图像图标布置上方,使得所述一种或多种折射图像图标聚焦元件布置的一部分形成所述一种或多种图像图标布置的一部分的合成图像。再此外,所述一种或多种折射图像图标聚焦元件布置沿着非平坦边界接触所述密封层。
公开/授权文献
- CN113795389A 使用纳米颗粒调谐聚合物基质层的折射率以优化微光学(MO)聚焦 公开/授权日:2021-12-14