Invention Grant
- Patent Title: 内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法
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Application No.: CN202110998245.8Application Date: 2021-08-27
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Publication No.: CN113825377BPublication Date: 2023-12-26
- Inventor: 程海娟 , 茹丘旭 , 祝旭锋 , 杨伟声 , 陈蛟 , 王元康 , 邓苑 , 金大秋 , 杨丰刚
- Applicant: 云南北方光学科技有限公司
- Applicant Address: 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区经开区红外路5号102号工房
- Assignee: 云南北方光学科技有限公司
- Current Assignee: 云南北方光学科技有限公司
- Current Assignee Address: 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区经开区红外路5号102号工房
- Agency: 昆明盛鼎宏图知识产权代理事务所
- Agent 许竞雄
- Main IPC: H05K9/00
- IPC: H05K9/00 ; G03F7/00 ; C23C14/26 ; C23C14/04
Abstract:
本发明公开了一种内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法,包括如下步骤:a.准备制备原料;b.利用丙酮和丁内酯对正性光刻胶AZ9260进行稀释;c.将得到的稀释后的光刻胶溶液均匀喷涂在柱面棱镜内部得到样件;d.将得到的样件放入恒温烘箱;e.烘烤后对样件进行刻蚀;f.刻蚀后利用ZX‑238显影液对样件进行显影;g.然后将显影后的样件放入超纯水中冲洗,再将样件表面水分吹干;h.吹干样件后将其放置到导电膜镀膜机中镀制金属膜,金属膜材料为铬和银合金;i.再将镀膜后得到的样件放入N‑甲基吡咯烷酮溶液中,恒温超声振荡;j.最后步骤i中得到的样件放置到导电膜镀膜机中镀制电极。解决现有传统的接收窗口电磁屏蔽金属网栅无法在有限制的空间内布设的问题。
Public/Granted literature
- CN113825377A 内凹面限制空间的电磁屏蔽金属网栅制备方法 Public/Granted day:2021-12-21
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