发明公开
- 专利标题: 微波合成制备高暴露率锐钛矿{001}面的方法、产品及应用
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申请号: CN202111217269.1申请日: 2021-10-19
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公开(公告)号: CN113830824A公开(公告)日: 2021-12-24
- 发明人: 张成 , 李君臣 , 高婷 , 谭鹏 , 方庆艳 , 陈刚
- 申请人: 华中科技大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市珞喻路1037号
- 专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市珞喻路1037号
- 代理机构: 武汉东喻专利代理事务所
- 代理商 何首春
- 主分类号: C01G23/047
- IPC分类号: C01G23/047 ; B01J21/06 ; B01J32/00 ; B01J37/34 ; B01D53/86 ; B01D53/56
摘要:
本发明公开了一种微波合成制备高暴露率锐钛矿{001}面的方法,包括如下步骤:S1将钛源和晶面处理剂混合,然后加入溶剂形成混合液体,将混液充分混合后,放入微波合成仪进行微波合成;S2将步骤S1中微波合成后的液体进行充分洗涤,干燥后得到锐钛矿{001}面载体前体,再将该前体进行退火处理得到高暴露率的锐钛矿{001}面。本发明还公开了对应的产品和应用。本发明使用含碳酸根的铵盐代替氢氟酸作为晶面处理剂,在保证了高暴露率的同时,大大减少了对环境的危害;采用微波合成的方法,原料混合更加均匀,大大缩短了反应时间,减少了载体生产周期,获得的锐钛矿{001}晶面暴露率高,杂质少,性能优良,可进一步作为SCR催化剂的良好载体,应用范围较广。