发明公开
- 专利标题: 发光基板及其制备方法、显示装置
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申请号: CN202010621948.4申请日: 2020-06-30
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公开(公告)号: CN113867043A公开(公告)日: 2021-12-31
- 发明人: 谢晓冬 , 何敏 , 王静 , 张天宇 , 赵雪 , 钟腾飞
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 彭久云
- 主分类号: G02F1/13357
- IPC分类号: G02F1/13357 ; G03F7/20
摘要:
一种发光基板及其制备方法、显示装置,该制备方法包括:提供衬底基板;利用包括第一掩模图案的第一掩模板在衬底基板上形成第一导电图案;利用包括第二掩模图案的第二掩模板在第一导电图案上形成第一绝缘层,以形成暴露第一导电图案的部分区域的第一过孔和第二过孔;利用第一掩模板在第一绝缘层上形成第二导电图案,第二导电图案通过第一过孔和第二过孔与第一导电图案电连接;利用第二掩模板在第二导电图案上形成第二绝缘层,以形成暴露第二导电图案的部分区域的第三过孔和第四过孔;以及利用包括第三掩模图案的第三掩模板在第二绝缘层上形成第三导电图案,第三导电图案通过第三过孔与第二导电图案电连接。该制备方法可以降低制备成本。
公开/授权文献
- CN113867043B 发光基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2023-01-10
IPC分类: