- 专利标题: 一种基于相变材料超表面结构复用方法及其应用
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申请号: CN202111345474.6申请日: 2021-11-15
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公开(公告)号: CN113885104B公开(公告)日: 2023-07-04
- 发明人: 杨磊 , 陈举 , 吴迪富 , 孙玉娟 , 冒建军 , 杨肖辉 , 徐新宇 , 杨春政 , 任旭东
- 申请人: 江苏宇迪光学股份有限公司 , 江苏大学
- 申请人地址: 江苏省南通市如东县双甸镇工业园区;
- 专利权人: 江苏宇迪光学股份有限公司,江苏大学
- 当前专利权人: 江苏宇迪光学股份有限公司,江苏大学
- 当前专利权人地址: 江苏省南通市如东县双甸镇工业园区;
- 代理机构: 南京智造力知识产权代理有限公司
- 代理商 张明明
- 主分类号: G02B1/00
- IPC分类号: G02B1/00 ; G02F1/00 ; G02F1/01
摘要:
本发明提供了一种超表面结构复用方法,基于相变材料制作的超表面,利用超表面对几何相位的调制或者对传输相位的调制,实现多种不同功能,在超表面编码设计时,依据几何相位对超表面单元结构方位角进行编码设计,依据传输相位对超表面单元结构几何尺寸进行编码设计;在使用时,通过控制超表面相态以及相应的光场实现不同功能。本发明还给出一种基于上述超表面结构复用方法的多图像存储加密应用:将超表面中的每个单元结构分别作为一个像素点,利用单元结构对透射光几何相位或传输相位的调制量,记录图像各像素点信息,实现对多幅图像的存储。
公开/授权文献
- CN113885104A 一种基于相变材料超表面结构复用方法及其应用 公开/授权日:2022-01-04
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层 |