发明公开
- 专利标题: 一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用
-
申请号: CN202111169775.8申请日: 2021-10-08
-
公开(公告)号: CN113897574A公开(公告)日: 2022-01-07
- 发明人: 张小锋 , 殷举航 , 刘敏 , 邓春明 , 邓畅光 , 邓子谦 , 毛杰
- 申请人: 广东省科学院新材料研究所
- 申请人地址: 广东省广州市天河区长兴路363号
- 专利权人: 广东省科学院新材料研究所
- 当前专利权人: 广东省科学院新材料研究所
- 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区长兴路363号
- 代理机构: 北京超凡宏宇专利代理事务所
- 代理商 覃蛟
- 主分类号: C23C4/10
- IPC分类号: C23C4/10 ; C23C4/073 ; C23C4/134 ; C23C4/02 ; C23C14/08 ; C23C14/16 ; C23C14/02 ; F41H3/00
摘要:
本发明公开了一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用,属于涂层技术领域。该隐身涂层包括YSZ陶瓷层,YSZ陶瓷层具有羽毛柱状晶,且羽毛柱状晶之间的间隙为不超过1μm。具有上述结构的YSZ陶瓷层不仅在高温下具有良好的稳定性和隔热性能,而且能够增大涂层对红外光的反射和后向散射,降低涂层的发射率。其制备方法包括以下步骤:采用等离子喷涂‑物理气相沉积方式制备YSZ陶瓷层,该方法简单易操作,推广性强。上述隐身涂层可用于作为飞行器的红外隐身涂层,满足飞行器在高温条件下的隐身需求。
公开/授权文献
- CN113897574B 一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用 公开/授权日:2023-11-03
IPC分类: