一种耐腐蚀除污镀层的制备方法，在AlCl3和氯化正丁基吡啶（BPC）组成的离子液体中加入g‑C3N4纳米片和无水乙醇，然后加入Ti或Zn的氯化盐形成电镀液，然后在电镀液中加入Al单质，静置5~8h，去除Al单质后在惰性气氛下在基体表面进行电镀沉积制备Al‑Ti‑g‑C3N4或Al‑Zn‑g‑C3N4镀层。本发明制备的Al‑Ti‑g‑C3N4或Al‑Zn‑g‑C3N4镀层表面光滑，结构致密，镀层中合金晶粒形貌均匀，尺寸小至30~100nm，在800℃高温下腐蚀速度为1.29~1.73×10‑6，在8%质量浓度的NaCl溶液中的腐蚀速率为1.08~1.36×10‑5，在400℃，10%SO2氛围中腐蚀速率为1.04~1.22×10‑6，具有优异的耐腐蚀性能，同时还具有光催化降解有机物的优异效果，180min下对RhB的降解率达到82.7%。