本发明涉及光刻设备技术领域，公开了一种用于光刻机的隔振装置，其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理，使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化，为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境，控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理，从而维持内部工作环境的稳定，也即，第一隔振机构和第二隔振机构相配合，协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果，为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境，提高了工件台的运动精度。