本公开公开了一种清洁设备基站及清洁设备系统，属于清洁设备领域。清洁设备基站包括：壳体、清水系统、污水系统、清洗系统和控制系统；壳体包括清水舱、容纳舱和污水舱；清水舱位于容纳舱的上方，污水舱位于容纳舱的下方；清洗系统位于容纳舱内；清水系统包括清水箱和供水组件；清水箱位于清水舱内，供水组件的一端连通清水箱，另一端连通清洗系统；污水系统包括污水箱和集污组件；污水箱位于污水舱内，集污组件的一端连通污水箱，另一端连通容纳舱的底部；控制系统与清水系统、污水系统和清洗系统电性连接。本公开的清洁设备基站，结构简单，加工和装配成本低，且工作可靠性高。