发明授权
- 专利标题: 晶圆切割保护方法及具有切割保护环的晶圆
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申请号: CN202111614864.9申请日: 2021-12-28
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公开(公告)号: CN113990748B公开(公告)日: 2022-08-30
- 发明人: 杨国江 , 于世珩 , 毛嘉云
- 申请人: 江苏长晶浦联功率半导体有限公司
- 申请人地址: 江苏省南京市浦口区浦口经济开发区双峰路69号C-16
- 专利权人: 江苏长晶浦联功率半导体有限公司
- 当前专利权人: 江苏长晶浦联功率半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市浦口区浦口经济开发区双峰路69号C-16
- 代理机构: 南京天翼专利代理有限责任公司
- 代理商 汤志武
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304 ; H01L21/67 ; H01L23/544
摘要:
晶圆切割保护方法及具有切割保护环的晶圆,将对晶圆的切割分别在前道生产和后道生产分两部分进行,先在前道生产中在晶圆的切割道上进行化学蚀刻,在晶粒周围形成切割保护环,然后在后道生产中,在切割保护环中再以切割刀进行切割,彻底分割晶圆,其中切割保护环的宽度大于切割刀的刃宽。本发明摒弃了以往晶圆切割必须在后道生产中进行的观念,不需变更原有工艺的芯片制造及切割设计,通过切割保护环在外延层实现平滑的切割面,不易吸附水汽或杂质,不会在后道生产常见的切割问题,对于产品信赖性及寿命有极大的帮助,且相比切割刀直接切割的方式,无外力作用于切割道正面,因切割刀崩坏外延层的机会为零,避免正面崩坏影响良率。
公开/授权文献
- CN113990748A 晶圆切割保护方法及具有切割保护环的晶圆 公开/授权日:2022-01-28
IPC分类: