发明公开
- 专利标题： 一种难熔高熵合金涂层及其制备方法
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申请号： CN202111347661.8申请日： 2021-11-15
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公开(公告)号： CN114032544A公开(公告)日： 2022-02-11
- 发明人: 刘洪喜 , 樊尧 , 张晓伟 , 郝轩宏 , 王悦怡
- 申请人： 昆明理工大学
- 申请人地址： 云南省昆明市五华区一二—大街文昌巷68号
- 专利权人： 昆明理工大学
- 当前专利权人： 昆明理工大学
- 当前专利权人地址： 云南省昆明市五华区一二—大街文昌巷68号
- 代理机构： 宁波海曙甬睿专利代理事务所
- 代理商 朱松峰
- 主分类号： C23C24/10
- IPC分类号： C23C24/10 ; C22C30/00
摘要：
本发明公开了一种难熔高熵合金涂层，其特征在于，由下述原料制备而成：Ti：4％～20％、Zr：20％、Mo：20％、Nb：20％、Cr：20％；本发明提供了由Ti、Zr、Mo、Nb和Cr五种高熔点金属元素组成的高熵合金涂层，高硬度，高强度，高韧性，低温下的高塑性，以及优异的耐磨损、耐氧化、耐腐蚀性等，以针对不同工况下更好的应用；能综合的改善改善钛合金的高温服役性能，提升其表面的强度、以及其耐高温性、抗氧化性。
公开/授权文献
- CN114032544B 一种难熔高熵合金涂层及其制备方法 公开/授权日：2023-12-08
IPC分类:
