发明公开
- 专利标题: 一种提高低温高磁感取向硅钢附着性的方法
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申请号: CN202111156354.1申请日: 2021-09-30
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公开(公告)号: CN114045385A公开(公告)日: 2022-02-15
- 发明人: 肖光润 , 王雄奎 , 唐爽 , 刘宇 , 田文洲 , 孙山 , 蒋祝爽
- 申请人: 武汉钢铁有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市青山区厂前2号门内
- 专利权人: 武汉钢铁有限公司
- 当前专利权人: 武汉钢铁有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市青山区厂前2号门内
- 代理机构: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
- 代理商 钟锋; 闭钊
- 主分类号: C21D9/00
- IPC分类号: C21D9/00 ; C21D1/68 ; C21D1/74 ; C21D3/04 ; C21D1/26 ; C23C8/26
摘要:
本发明涉及一种提高低温高磁感取向硅钢附着性的方法,该方法在现有低温高磁感取向硅钢连续式脱碳退火炉中,通过在脱碳退火前区通入氮气、氢气干式混合气,在脱碳退火后区通入氮气、氢气湿式混合气进行脱碳,在渗氮区通入氮气、氢气湿式混合气及氨气进行渗氮,解决了低温高磁感取向硅钢附着性不好的难题。本发明方法提高了钢中总氧量、增加了氧化层厚度、改善了氧化层结构,经高温退火后生成了致密的硅酸镁底层,附着性大幅提高,测试结果均在C级以上,大部分样品在B级以上。
公开/授权文献
- CN114045385B 一种提高低温高磁感取向硅钢附着性的方法 公开/授权日:2023-01-24