发明公开
CN114068674A 浮栅存储器及其制备方法
审中-实审
- 专利标题: 浮栅存储器及其制备方法
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申请号: CN202111347652.9申请日: 2021-11-15
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公开(公告)号: CN114068674A公开(公告)日: 2022-02-18
- 发明人: 朱宝 , 尹睿 , 张卫
- 申请人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区碧波路690号401-23室
- 专利权人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 当前专利权人: 上海集成电路制造创新中心有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区碧波路690号401-23室
- 代理机构: 上海恒锐佳知识产权代理事务所
- 代理商 黄海霞
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/24 ; H01L29/49 ; H01L29/788 ; H01L21/34
摘要:
本发明提供了一种浮栅存储器,包括衬底、绝缘介质层、缓冲层、沟道层、隧穿层、源极、漏极、浮栅层、阻挡层、栅极和栅极接触材料层,所述缓冲层覆盖所述绝缘介质层背向所述衬底的一面,所述沟道层覆盖所述缓冲层背向所述绝缘介质层的一面,所述隧穿层覆盖所述沟道层背向所述缓冲层的一面的部分,所述浮栅层覆盖所述隧穿层背向所述沟道层的一面,所述阻挡层覆盖所述浮栅层背向所述隧穿层的一面,所述栅极覆盖所述阻挡层背向所述浮栅层的一面,能够利用二维材料无悬挂键的优势,减小界面缺陷,降低了所述浮栅存储器的阈值电压,进而降低所述浮栅存储器的功耗。本发明还提供了所述浮栅失存储器的制备方法。
IPC分类: