发明授权
- 专利标题: 显示基板及其制作方法、显示装置
-
申请号: CN202010866854.3申请日: 2020-08-25
-
公开(公告)号: CN114114762B公开(公告)日: 2023-10-13
- 发明人: 龚林辉 , 刘超
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 京东方晶芯科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,京东方晶芯科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,京东方晶芯科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 魏艳新; 姜春咸
- 主分类号: G02F1/1343
- IPC分类号: G02F1/1343 ; G02F1/1333 ; H01L27/15
摘要:
公开一种显示基板及其制作方法、显示装置,所述显示基板包括:具有第一面、第二面和侧面的基底,基底包括显示区和位于显示区一侧的外延区;设置在所述基底的第一面上的驱动功能层和多个第一绑定电极,所述驱动功能层位于所述显示区,所述第一绑定电极位于所述外延区,且与所述驱动功能层电连接;设置在所述基底的第二面上的多个第二绑定电极,所述第二绑定电极通过侧面走线与所述第一绑定电极一一对应连接;所述侧面走线的一部分位于所述基底的侧面上;设置在所述基底的第一面上的挡墙,所述挡墙位于所述外延区,所述挡墙在所述基底上的正投影至少沿多个所述第一绑定电极的排列方向穿过每相邻两个第一绑定电极之间的间隔区域。
公开/授权文献
- CN114114762A 显示基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日:2022-03-01
IPC分类: