本发明属于光学镀膜材料技术领域，具体涉及一种光学镀层基材及使用方法。本发明提供的光学镀层基材的原材料按重量百分比计包括以下组分：二氧化硅15‑18％；二氧化钛13‑15%；二氧化锆10‑12％；五氧化二铌5‑8％；硫化锌2‑4％；余量为氧化镧和不可避免的杂质，杂质占光学镀层基材的总质量不超过0.03%。与现有技术相比，本发明提供的光学镀层基材能够广泛应用于各类光学基片的镀膜，制得的镀膜层水接触角小，可有效防止在湿热环境中起雾，透光率高且折射率与玻璃接近，不影响玻璃基片的正常透光，也不引起光学畸变，并且还具有一定耐磨性，对玻璃基片具有一定的保护作用。