发明授权
- 专利标题: 一种提高金属型芯涂层界面稳定性的方法
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申请号: CN202010932055.1申请日: 2020-09-08
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公开(公告)号: CN114147169B公开(公告)日: 2022-12-20
- 发明人: 刘恩泽 , 张冲 , 郑志 , 宁礼奎 , 佟健 , 纪慧思 , 谭政
- 申请人: 中国科学院金属研究所
- 申请人地址: 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
- 专利权人: 中国科学院金属研究所
- 当前专利权人: 中国科学院金属研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
- 代理机构: 沈阳科苑专利商标代理有限公司
- 代理商 于晓波
- 主分类号: B22C3/00
- IPC分类号: B22C3/00 ; B22C9/04 ; B22C9/22 ; C23C14/16 ; C23C14/32 ; C23C14/34 ; C23C16/06 ; C23C16/40 ; C23C16/44 ; C23C16/52 ; C23C16/56 ; C23C28/00
摘要:
本发明公开了一种提高金属型芯涂层界面稳定性的方法,属于金属防护涂层技术领域,主要目是解决氧化硅与高温合金的界面问题,具体包括以下步骤:第一步优化涂层和预氧化技术,减少氧化硅的生成,最大化惰性氧化膜中氧化铝的含量;第二步是利用高熔点金属涂层,高熔点金属涂层沉积在型芯惰性氧化膜的表面,利用氧化硅在真空、高温环境中与沉积金属元素发生化学反应和扩散,形成更加稳定界面类型,从而大幅提高界面的稳定性,涂层结构为金属间化合物层/惰性氧化层/金属涂层。本发明可用于精密铸造领域,用于空心叶片的生产。
公开/授权文献
- CN114147169A 一种提高金属型芯涂层界面稳定性的方法 公开/授权日:2022-03-08